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液晶面板・光刻设备曝光设备

【接触式/接近式曝光装置】曝光MA

  • 特征
●机械手平台可移动±50 mm,便于对齐

●在可移动的部件上设置传感器,防止误操作

●更轻量化的设计  ※与本公司的MA-10比较

●防止面罩掉落的抽板※根据面罩玻璃规格制造

●适配不规则尺寸的基板*根据基板样式真空吸附


最大基板尺寸 φ4英寸
最大基板厚度 2毫米
最大掩模尺寸 5 x 5英寸
UV灯室 准直仪类型
照度 >8mW/cm2(At405 Nm)
照度均匀性 <±8.5%
曝光光源 UV灯泡250W
曝光波 宽带(g·h·i线)
有效照射面 φ4英寸
曝光计时 0到999.9秒计时器集成式
UV渐变退化校正功能 不可安装
准作用域 双视镜
物镜间隔18~60mm
镜分辨率 1.2μm
使用物镜20×时
量功能 不可安装
接触方法 软接触/硬接触
操作方式 触摸屏式
联锁结构 口罩晶圆吸附
Z轴下限位置
范围摆动UP·DOWN位置
Maniplayer台位置
示器活动范围 X·Y±6.5mm微动0.025mm1旋转
θ:50°微动±5°
Z:10mm微动0.025mm1旋转
十字活动范围 X·Y±50mm
AC100 50/60Hz 9A
用功能 空气:0.5MPa
围摇摆/平台
N2:0.5MPa硬接触
真空:-0.08MPa掩模/基板吸附用
廓尺寸 750瓦x 600H x 650D
重量 90公斤
其它配件 专用的除振台
真空泵
三眼镜筒监视器规格
曝光光源500W规格

*式样、规格可能会有变化,恕不另行通知


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