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液晶面板・光刻设备

光刻相关设备

半导体接近用UV固化设备/半导体内存设备

作为紫外线照射设备在LSI制造生产线和内存制造生产线有约700台的购入记录。

主要用途

  • ・驱动蚀刻时的耐等离子性的提高
  • ・去除电荷
  • ・离子注入时的固体脱气及烧结
  • ・绝缘膜的形成
  • ・化合物半导体脱离工序
  • ・CCD、CMOS截图
  • ・提高湿蚀刻性&镀金性
  • ・Low-kキュア

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液晶面板・光刻设备

紫外线光阻剂硬化/CHARGE ERASE装置「UNIHARD」

紫外线照射装置,在LSI制造生产联机使用的紫外线阻剂固化、及电荷消除装置。 配备超高压UV灯与EXCIMER灯,应用在提升乾蚀刻时的耐电浆性、离子注入时的阻剂脱气与烧制、电荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各种用途。

主要用途

  • ・提高乾蚀时的耐电浆性
  • ・离子注入时的阻剂脱气及烧入
  • ・电荷消除与消除疲乏
  • ・Low-k Cure
  • ・薄膜磁头之层间绝缘膜形成
  • ・化合物半导体的Lift-Off工程
  • ・表面改质
  • ・CCD与CMOS影像仪的去色(bleaching)等

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液晶面板・光刻设备

准分子(Excimer)灯【126nm/146nm/172nm/222nm/308nm】

封入氙气的准分子(Excimer)灯,(诱电体屏障放电Excimer灯) 可有效放射波长180nm以下的VUV,(真空紫外线) 达到快速的化学反应与反应速度。

主要用途

  • ・HDD光碟洗净
  • ・阻剂剥离
  • ・阻剂残渣的剥离
  • ・塑料基板的洗净
  • ・金属表面的清洗与重组
  • ・Low-k Cure
  • ・PDP萤光体评估
  • ・分析评估前的洗净
  • ・气体分解
  • ・形成氧化膜
  • ・防止带电
  • ・干燥
  • ・玻璃胶膜的贴合
  • ・纤维的改质
  • ・有机EL封装管的接合性提高
  • ・有机EL的工作函数増加

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液晶面板・光刻设备

UV剥離装置

主要用途

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液晶面板・光刻设备

涂布机

R&D用涂布机的优秀产品。 牛尾贸易作为R&D用装置专门公司Mikasa在中国唯一一家的总代理店,1960年代以来,实际代理台数达到7,500台以上。经过实验验证,可以对应各种涂布材料,对于研究人员的涂布起到着实有效的支持。

主要用途

  • ・光阻涂布
  • ・成膜

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成像装置

主要用途

  • ・各种光阻呈像

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蚀刻装置 ED-1200

主要用途

  • ・各种蚀刻处理

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