技术信息

RESEARCH

TOP  >  技术信息  >  投影曝光技术

技术信息

RESEARCH

采用开发高输出灯与无风险遮罩专用的投影曝光,以达到符合基板收缩、组装及多层类型之高精确度重合的USHIO投影曝光装置。介绍适用于晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、滚压基板、印刷基板等各种基板之USHIO大面积投影曝光的主要技术。

光源技术

适于投影曝光装置之专用设计

身为光源制造厂的USHIO,对以半导体与液晶步进机为首之曝光装置,提供高电源、高稳定的紫外线光源(UV灯)。 大面积投影曝光装置「UX系列」在开发曝光装置的同时,开始进行光源的开发,并采用可在所有的曝光装置上,完全发挥光学类特性的专用设计光源。

照明光学技术

转变为理想的「光源」

有效集中灯具放射的光源,可以高度均匀、高平行之方式照射遮罩的照明光学系统。于各个镜面实施特殊涂装,可执行曝光波长的选择与热线的阻隔。
USHIO的照明光学系统技术,源自于1960年开始的SPACE CHAMBER用太阳能模拟器的开发,以高度的光学技术为起始。之后,对许多半导体与液晶用曝光装置提供照明光学系统,并提高曝光装置用光学系统的完成率。
「UX系列」的照明光学类,充分运用过去的专业知识与实绩,备有灯光输出或曝光波长相关的各种应用方案等,以提供适合制程的理想平行光投影光学系统。

投影光学技术

1. 可做到「深入的焦点深度」「无风险」

USHIO注重遮罩与工件未接触之无遮罩风险的投影曝光方式,开发出过去难以做到的大面积与低扭曲变形之投影光学系统。

2. 投影镜头

USHIO独特的投影镜头是具有曝光范围200mm、及解析度5μmL/S规格的低扭曲镜头的旗舰机种。最适用于多样化需求的光学设计,在维持较深的焦点深度下,开发出各种曝光面积与解析度之投影镜头,并推出系列产品。

3. 可改变投影倍率

检测伴随基板伸之类型伸缩,并自动调整投影倍率至最大±0.1%。问题在于伸缩较大的工作重合曝光,可防止重合偏移,以达到完美的选择与调整。

校正技术

1. 高精确度位置对准

USHIO的大面积投影曝光装置,采用独特的「TTL非曝光波长校正」之自动校正功能。个别检测出遮罩与工作的校正记号,以分别经由影像处理固定在XY座标轴上执行对准位置的方式,具备如下的特徵。

對準工件位置

工件之位置調整

2. TTL非曝光波长校正

1. 整体涂铬的开口部较小遮罩,亦可经由个别观察遮罩与工 件,轻易发现工作记号。

2. 隔着遮罩观察并非降低亮度,而是可以清楚的记号执行校正。

3. 即使是在下述影响下亮度较低的记号,亦可通过照明方法的选择(亮视野/暗视野照明)与波长选择,提高目视确认性的效果。

位置調整目視確認性的例子

3. 类型比对方式

1. 即使无专用校正记号,亦可以影像辨识的方式,执行记录各种配线图案的校正。

2. 可配合校正记号,选择各种自动校正运算规则。(参考法、重心检测)

搬运技术

符合各种工件应用软件

从晶圆、弹性基板、印刷基板等开始,备有适于各种工件之高精确度搬运系统。 此外,活用广泛曝光范围之全面曝光,更适用于面积工件之步进&重复曝光等,符合各种曝光需求的曝光台还支援有效率、稳定的处理。

联系我们